USD 300 ~ USD 760
Brand:11 Technology Co., Ltd.
Model No:Ti2VAlC2
Transport:Express,Air
Emballage:Aluminiumsfoliepose
Forsyningsevne:Sufficient production
Oprindelsessted:Jilin, Kina
Produktivitet:High yield
Opbevaring: Tørstætningsbevaring under 50 ℃. Brug ikke, hvis cap segl er brudt. Holde utilgængeligt for børn. Titanium vanadium aluminiumskarbid Udseende: Sort pulvercas: Element: Ti, V, Al, C Renhed: ved røntgenresultat Molekylvægt: 182.84...
1. Kemisk formel: Ti3alc2
2. Konstituerende elementer: Ti, Al, C
3. Molekylvægt: 194.6
4. Kemisk status: Partikler af mikro- og nano -størrelse
5. Udseende og karakter: Mørkebrune partikler med mikro- og nano -størrelse
1. Krystalstruktur: hexagonal, p63/ mmc [194]
2. Celleparametre:
A = 3,081 a, b = 3,081 a, c = 18,679 a;
α = 90,00 °, β = 90,00 °, γ = 120,00 °;
3. PDF-nr.: JCPDS nr. 52-0875 (se International Diffraktionsdatacenter PDF-2004-database);
4. Densitet: 4.2 (g/cm3);
5 kogepunkt: ≥ 2700 ℃;
6. Smeltepunkt: ≥ 1300 ℃;
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Renheden er over 98%, der er velegnet til LIF+HCL -metode til ætsning og skræl mindre (enkelt) lag. Mængde giver stor fordel.
Renhed 99,99%, ingen urenheder, der er egnet til ætsningsmiddel ætsning, en stor mængde indrømmelser.
Renheden er 99%, og de fleste af de artikler, der er offentliggjort af udenlandske forskningsgrupper, bruger dette materiale
Kemisk videnskabelig forskningseksperiment Ti3alc2 sort pulver
Varm anbefaling
Xometry Instant Engine Flower
Xometry Instant Engine Flower
Xometry Instant Engine Flower
Xometry Instant Engine Flower
Beskyttelseserklæring: Dit privatliv er meget vigtigt for os. Vores virksomhed lover ikke at videregive dine personlige oplysninger til ethvert udstrækning uden dine eksplicitte tilladelser.
Udfyld mere information, så det kan komme i kontakt med dig hurtigere
Beskyttelseserklæring: Dit privatliv er meget vigtigt for os. Vores virksomhed lover ikke at videregive dine personlige oplysninger til ethvert udstrækning uden dine eksplicitte tilladelser.